第2章

书名:我在2025搞芯片  |  作者:刘福贵先生  |  更新:2026-05-15
震惊全场,5nm理论------------------------------------------"什么?!""基于DUV光刻机的5nm制程工艺?他疯了吧!""现在全世界最先进的DUV光刻机也只能做到7nm,而且良率极低。他竟然说能用DUV做5nm?简直是天方夜谭!",评委们脸上都露出了难以置信的表情。,也抬起了头,浑浊的眼睛里闪过一丝**。,今年已经62岁了。他一生都在为国产芯片奋斗,亲眼见证了无数次失败。这次星联合众国的制裁,对他的打击最大,他已经好几天没合眼了。:"林辰,你知道你在说什么吗?5nm制程工艺,现在只有积电半导体和星洲电子能做到,而且他们用的都是EUV光刻机。你说能用DUV做5nm,你要是真能做到,我把这个答辩台吃下去!""好啊。"林辰淡淡一笑,"如果我能证明我的理论是正确的,您不用吃答辩台,只需要给我一个优秀答辩成绩就行。",林辰走到电脑前,拔掉了原来的U盘,插上了自己随身携带的U盘。,很快,一个全新的PPT出现在了大屏幕上。:《一种基于多重曝光技术的DUV光刻机5nm制程工艺方案》。,整个答辩现场鸦雀无声。、光刻工艺、刻蚀精度、薄膜沉积等各个方面,详细阐述了如何用DUV光刻机实现5nm制程。"沉浸式四重曝光技术"、"自对准多重图形技术"、"高选择性刻蚀工艺",每一个都颠覆了现有的技术认知。,数据详实,公式推导严谨,没有任何漏洞。
评委们从最初的不屑,到惊讶,再到震惊,最后一个个都站了起来,眼睛死死地盯着大屏幕,生怕错过任何一个细节。
张敬华教授的身体微微颤抖着,他从事芯片研究四十多年,从来没有见过如此完美的技术方案。
这个方案如果真的能实现,那将彻底改变华夏芯片产业的命运!
"……以上就是我的全部理论。"林辰关掉PPT,转过身,看着目瞪口呆的评委们,"各位老师,有什么问题吗?"
现场一片寂静,没有人说话。
过了足足五分钟,张敬华教授才深吸一口气,声音沙哑地问道:"林辰,你的这个方案,有实验数据支持吗?"
"有。"林辰点了点头,"我已经在实验室里做了模拟实验,良率可以达到90%以上。"
"什么?!"
又是一阵惊呼。
现在积电半导体用EUV光刻机做5nm,良率也才80%左右。林辰竟然说用DUV能做到90%的良率?
这已经不是颠覆了,这是神迹!
张敬华教授猛地站起来,走到林辰面前,紧紧地抓住他的手,激动地说道:"林辰,跟我来实验室!现在就去!我要亲眼看到你的实验数据!"
(第二章完)
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